■ 募集背景

当社は車載・民生・産業用途のマイコン、SoC、アナログ、パワー製品などの幅広い半導体製品を生産し、AI、自動車、各種産業分野に向けて革新的な半導体ソリューションをグローバルに提供しています。

プロセス成膜技術部はルネサス生産拠点の成膜に関わるプロセス開発、安定稼働、コスト削減、品質改善の観点で各拠点を統括する役割を担う部門です。

AI・データセンタ・車載をはじめとして、日々、需要・用途とともに拡大している半導体の供給に対する社会的な要請に応え続けていくためには、中期的にチーム運営を担う人材の強化が必要となっています。今後のプロセス成膜技術部の中核を担う、革新的な技術開発への情熱と起業家精神を持ち、当事者意識の高い、将来のチームリーダーとなる人材を募集しています。

■担当技術分野

・Epitaxial CVDプロセス技術開発

■　対象製品

・車載・民生・産業用途のGaN、SiパワーMOS、マイコン、SoC、アナログ

■　担当業務

・新規デバイス向けの前工程プロセス開発

・新規設備、新規材料の選定、立ち上げ、量産適用

・国内工場設備の安定稼働、コスト削減、品質改善

・学会発表、特許提案

・本募集職種、およびそれに類する業務経験を有する方

・高専、4年制大学または大学院にて電気、機械、化学、または物理学等を修了している方

・基本的なPC操作の出来る方　(Excel、Word、Powerpoint)

・関係部門を含め円滑なコミュニケーションを取る能力のある方

ルネサスは、「To Make Our Lives Easier 」（人々の暮らしを楽“ラク”にする）というPurposeの下、組み込み半導体ソリューションを提供します。高品質とシステ...